Çin, bugüne kadar yalnızca Hollandalı teknoloji devi ASML’nin üretebildiği ve ileri seviye çip üretiminin kalbi olarak görülen EUV (Aşırı Ultraviyole) litografi makinesinde çalışan bir prototip geliştirdi. Eğer bu adım doğrulanır ve ticarileşirse, yalnızca Çin için değil, küresel teknoloji düzeni için de yeni bir dönem başlayabilir.
Bu gelişme, 5 nm, 3 nm ve daha altı üretim teknolojilerinin anahtarı olarak görülen EUV alanında Hollanda’nın yıllardır süren mutlak hâkimiyetinin ilk kez ciddi biçimde sarsılması anlamına geliyor.
Reuters’ın aktardığı bilgilere göre Çinli mühendisler, ileri seviye yarı iletken üretiminde kritik rol oynayan EUV teknolojisinde teoriyi aşarak çalışan bir sistem üretmeyi başardı. Kaynaklar, geliştirilen prototipin wafer işleme için gerekli olan aşırı ultraviyole ışını üretme kabiliyetine sahip olduğunu ve teknik olarak “aktif” durumda çalıştığını belirtiyor.
Bu yönüyle söz konusu sistem, daha önce gündeme gelen laboratuvar denemeleri ya da kağıt üzerindeki projelerden net biçimde ayrılıyor. Uzmanlara göre bu, Çin’in yarı iletken yarışında en somut ve en kritik eşiklerden biri.
Her ne kadar gelişme çarpıcı olsa da tablo tamamen pürüzsüz değil. Edinilen bilgilere göre Çin’in geliştirdiği EUV prototipi, bazı kritik bileşenlerde hâlâ eski ASML makinelerinden sökülen parçalara bağımlı. Özellikle Batılı tedarikçilerin ürettiği son derece hassas aynalar ve optik sistemlerin birebir kopyalanması, Çin için hâlâ aşılması zor bir mühendislik bariyeri olarak öne çıkıyor.
Ancak uzmanlara göre asıl önemli olan nokta, bu seviyede bir sistemin artık “çalışıyor” olması. Çünkü bu aşamadan sonra mühendislik sorunları zaman ve yatırımla çözülebilecek problemler olarak görülüyor.
Bu gelişme, kısa süre önce yapılan açıklamaları da tartışmaya açtı. Nisan ayında ASML CEO’su Christophe Fouquet, Çin’in bu seviyede bir EUV teknolojisine ulaşmasının uzun yıllar alacağını savunmuştu. Ancak Reuters’ın gündeme taşıdığı bu prototip, söz konusu öngörülerin fazla iyimser olabileceğini ortaya koydu.
Uzmanlar, Çin’in bu hızla ilerlemesi hâlinde yarı iletkenlerde teknolojik bağımsızlığa tahmin edilenden çok daha erken yaklaşabileceğini vurguluyor.
Mevcut bilgiler ışığında geliştirilen EUV prototipi henüz seri çip üretiminde aktif olarak kullanılmıyor. Ancak kaynaklara göre Çin’in bu teknolojiyi yaygın ve ticari ölçekte devreye alması 2030 civarında mümkün olabilir.
Bu tarih, özellikle ABD ile Çin arasında süregelen yarı iletken ve teknoloji savaşı düşünüldüğünde son derece kritik. Zira bu senaryo, Washington’un uyguladığı ihracat kısıtlamalarının etkisinin ciddi biçimde azalması anlamına geliyor.
Çin’de yapay zekâ alanındaki baş döndürücü büyüme, ileri üretim teknolojilerine olan ihtiyacı adeta zorunluluk hâline getirmiş durumda. Huawei, SMIC ile birlikte yeni üretim tesisleri kuruyor, mevcut kapasiteyi genişletiyor ve ABD yaptırımlarını aşacak yerli çözümler geliştiriyor.
SMIC’nin mevcut kısıtlamalara rağmen geliştirdiği ve 5 nm sınıfına rakip olarak gösterilen N+3 üretim süreci, bu stratejinin en somut örneklerinden biri olarak dikkat çekiyor.
Şu aşamada Çin’in EUV prototipinin ışık kaynağı verimliliği, optik mimarisi ve uzun vadeli üretim istikrarı gibi kritik teknik detaylar netlik kazanmış değil. Ancak teknoloji dünyasında herkesin üzerinde uzlaştığı bir gerçek var: Tüm soru işaretlerine rağmen bu prototip, Çin yarı iletken endüstrisi için tarihsel bir dönüm noktası.
Eğer süreç planlandığı gibi ilerlerse, küresel çip piyasasında tek üreticiye dayalı düzen sona erebilir ve teknoloji savaşında kartlar yeniden dağıtılabilir.
